有报道称，美国官员担心最先进的设备极紫外（EUV）光刻机可能已经流入中国市场。不过该消息遭到荷兰光刻机设备制造商否认。
美国商务部长霍华德·卢特尼克曾表示担忧，一台极紫外（EUV）光刻设备可能违反美国主导的出口管制流入中国。
报道还称，卢特尼克在一系列会议上向这家荷兰公司的高层领导表达了这些担忧。
全球最先进的EUV系统体积与校车相仿，重达180吨。
荷兰外交部在一份电子邮件声明中表示：“在半导体制造设备的出口方面，荷兰遵循明确的规则和管制清单，这些规则和清单基于欧盟两用物项条例和荷兰国内的其他措施。”
荷兰外交部表示：“所有明确属于这些规则范围内的设备、组件和技术都需要许可证。”并补充说，荷兰严格执行这项政策，“并在必要时介入”。
今年4月，美国提出一项法案，要求美国盟友将配合其出口管制措施，以遏制中国制造先进半导体的能力，而DUV（深紫外）光刻设备也被列入该法案的制裁名单。
