台积电先进封装功臣:余振华传入职联发科

来源:爱集微 #台积电# #联发科#
691

2026 年 5 月 2 日,据台媒报道,前台积电研发副总经理、卓越科技院士余振华(Douglas Yu)已正式加入联发科,将为其先进封装与 AI 芯片战略注入核心力量。

余振华是台积电 “研发六骑士” 中最后一位离职的核心人物,被誉为台积电先进封装的奠基人。他 1994 年加入台积电,1997 年主导建立台湾首座铜制程实验室,成功开发 0.18 微米铜制程,助力台积电在 0.13 微米节点超越 IBM,奠定全球代工龙头地位。2008 年后,他领军开发CoWoS(2.5D)、InFO(扇出型)、SoIC(3D) 三大先进封装技术,其中 InFO 从 iPhone 7 开始独家供货苹果,CoWoS 成为当前 AI 芯片主流封装方案,客户涵盖英伟达、AMD、谷歌等。

2025 年 7 月退休后,余振华时隔 10 个月加入联发科。业内认为,其加盟将直接降低联发科在EMIB-T等先进封装技术的研发与量产风险,加速其在 AI 芯片、高端 SoC 领域的布局。当前联发科正发力谷歌 TPU 等 AI 订单,余振华的技术积累与客户资源,有望助力其快速缩小与行业巨头的差距。

此次人才流动被视为半导体行业先进封装竞争加剧的标志性事件,台积电在先进封装领域的技术壁垒与人才优势面临挑战,而联发科则通过关键人才引进,补齐高端封装短板,冲击 AI 算力市场新格局。

责编: 邓文标
来源:爱集微 #台积电# #联发科#
THE END

*此内容为集微网原创,著作权归集微网所有,爱集微,爱原创

关闭
加载

PDF 加载中...